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本書共9章，基於公開文獻全方位地介紹了低溫等離子體蝕刻技術在半導體產業中的應用及潛在發展方向。以低溫等離子體蝕刻技術發展史開篇，對傳統及已報道的先進等離子體蝕刻技術的基本原理做相應介紹，隨后是占據了本書近半篇幅的邏輯和存儲器產品中等離子體蝕刻工藝的深度解讀。此外，還詳述了邏輯產品可靠性及良率與蝕刻工藝的內在聯系，聚焦了特殊氣體及特殊材料在等離子體蝕刻方面的潛在應用。最后是先進過程控制技術在等離子體蝕刻應用方面的重要性及展望。
本書可以作為從事等離子體蝕刻工藝研究和應用的研究生和工程技術人員的參考書籍。
