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《固態表面，介面與薄膜》這本書從實驗和理論兩方面探討了表面與介面的物理問題。在早期的版本中，表面和薄膜的製備，原子結構、形貌，振動態與電子輸運性質，以及吸附的基礎知識均被論及。表面和介面的電子態，半導體空間電荷層和異質結等內容由於在現代資訊技術和納米結構研究中的重要性也被重點論述。本書還增加了特殊的章節重點描述介面和薄膜的集體耦合行為，如超導電性和磁學，而磁學的討論中又包括了巨磁阻和自旋矩傳輸機理等重要內容。這兩部分內容在資訊技術中均具有重要價值。在第六版中，自旋-軌道耦合對於表面態的影響首次被討論，對近來研究較熱的、對自旋電子學具有重要價值的拓撲絕緣體材料也被討論。
因此，新版本還專門論述了滿足嚴格定義的自旋取向的新型拓撲保護表面態，尤其是，在早期版本中被忽略的一些重要的、成熟的實驗技術，如X射線衍射(XRD)，各向異性反射光譜(RAS)等在此新版中也得到補充。本書除了探討真正意義上的固態表面與介面的製備技術外，還重點探討了介面的結構、振動態及電學性質的基本物理模型，也涉及到了表面吸附與薄膜層狀生長的基本問題。由於現代微電子學的重要性，該書還特別強調了半導體介面和異質結的電學性質。在實驗方面，該書另一大特點是通過一系列“附錄”的形式講述了超高真空、電子光學、表面譜學和介面電學等表徵技術方面的基礎知識。為讀者提供了快速、全面瞭解現代各種表面、介面表徵技術的重要資訊。
